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當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心樣品前處理光化學(xué)反應(yīng)儀光化學(xué)反應(yīng)裝置CY-GHX-DC

光化學(xué)反應(yīng)裝置CY-GHX-DC
產(chǎn)品簡(jiǎn)介

光化學(xué)反應(yīng)裝置CY-GHX-DC光化學(xué)反應(yīng)儀, 又稱(chēng)為光化學(xué)反應(yīng)釜,多功能光化學(xué)反應(yīng)器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測(cè)定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2024-09-22
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問(wèn)量:493
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品牌其他品牌產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥控制主機(jī)數(shù)量1臺(tái)
反應(yīng)罐數(shù)量8只(30ml,50ml共8只)樣品反應(yīng)瓶數(shù)量1只
雙層石英冷阱數(shù)量1個(gè)汞燈功率調(diào)節(jié)范圍0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)

1.jpg

光化學(xué)反應(yīng)裝置CY-GHX-DC技術(shù)參數(shù):

型號(hào):CY-GHX-DC多功能控溫光化學(xué)反應(yīng)儀

(一)主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

(二)小容量反應(yīng)部分

1.石英試管規(guī)格:30ml、50ml(或定做)。

2.可同時(shí)處理8個(gè)樣品(或定做)。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度。

(三)大容量反應(yīng)部分

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

(四)控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W

2.控溫范圍:-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

大容量光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品配置:

配置單

數(shù)  量

控制主機(jī)

1臺(tái)

反應(yīng)暗箱

1臺(tái)

光源控制器

1臺(tái)

雙層石英冷阱

1個(gè)

汞燈(1000W)

1支

氙燈(1000W)

1支

金鹵燈(500W)

1支

攪拌裝置

1套

樣品反應(yīng)瓶

1只(250ml,500ml,1000ml可選)

反應(yīng)罐

8只(30ml,50ml共8只)

 












大試管1.jpg

光化學(xué)反應(yīng)裝置CY-GHX-DC光化學(xué)過(guò)程是地球上普遍、量重要的過(guò)程之一,綠色植物的光合作用,動(dòng)物的視覺(jué)。涂料與高分子材料的光致變性,以及照相、光刻、有機(jī)化學(xué)反應(yīng)的光催化等,無(wú)不與光化學(xué)過(guò)程有關(guān)。
近年來(lái)得到廣泛重視的同位素與相似元素的光致分離、光控功能體系的合成與應(yīng)用等,更體現(xiàn)了光化學(xué)是一個(gè)活躍的領(lǐng)域。光化學(xué)反應(yīng)與一般熱化學(xué)反應(yīng)相比有許多不同之處,主要表現(xiàn)在:加熱使分子活化時(shí),體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布;而分子受到光激活時(shí),原則上可以做到選擇性激發(fā)。體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學(xué)反應(yīng)儀的途徑與產(chǎn)物往往和基態(tài)熱化學(xué)反應(yīng)不同。
光化學(xué)研究反應(yīng)機(jī)理的常用實(shí)驗(yàn)方法,除示蹤原子標(biāo)記法外,在光化學(xué)中早采用的猝滅法仍是有效的一種方法。這種方法是通過(guò)被激發(fā)分子所發(fā)熒光,被其他分子猝滅的動(dòng)力學(xué)測(cè)定來(lái)研究光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理的。它可以用來(lái)測(cè)定分子處于電子激發(fā)態(tài)時(shí)的酸性、分子雙聚化的反應(yīng)速率和能量的長(zhǎng)程傳遞速率。
由于吸收給定波長(zhǎng)的光子往往是分子中某個(gè)基團(tuán)的性質(zhì),所以光化學(xué)提供了使分子中某特定位置發(fā)生反應(yīng)的手段,對(duì)于那些熱化學(xué)反應(yīng)缺乏選擇性或反應(yīng)物可能被破壞的體系更為可貴。光化學(xué)反應(yīng)的另一特點(diǎn)是用光子為試劑。
光化學(xué)的初級(jí)過(guò)程是分子吸收光子使電子激發(fā),分子由基態(tài)提升到激發(fā)態(tài)。分子中的電子狀態(tài)、振動(dòng)與轉(zhuǎn)動(dòng)狀態(tài)都是量子化的,即相鄰狀態(tài)間的能量變化是不連續(xù)的。因此分子激發(fā)時(shí)的初始狀態(tài)與終止?fàn)顟B(tài)不同時(shí),所要求的光子能量也是不同的,而且要求二者的能量值盡可能匹配。
光物理過(guò)程可分為輻射弛豫過(guò)程和非輻射弛豫過(guò)程。輻射弛豫過(guò)程是指將整體或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過(guò)程,如發(fā)射熒光或磷光;非輻射弛豫過(guò)程是指多余的能量整體以熱的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過(guò)程。
決定一個(gè)光化學(xué)反應(yīng)儀的真正途徑往往需要建立若干個(gè)對(duì)應(yīng)于不同機(jī)理的假想模型。找出各模型體系與濃度、光強(qiáng)及其他有關(guān)參量間的動(dòng)力學(xué)方程,然后考察實(shí)驗(yàn)結(jié)果的相符合程度,以決定哪一個(gè)是可能的反應(yīng)途徑。一旦被反應(yīng)物吸收后,不會(huì)在體系中留下其他新的雜質(zhì),因而可以看成是“純"的試劑。


光化學(xué)反應(yīng)儀CY品牌系列主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測(cè)定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
    目前,各種干擾在各類(lèi)工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)中均存在,所以?xún)x表及控制系統(tǒng)的可靠性直接影響到現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)裝置安全、穩(wěn)定運(yùn)行,系統(tǒng)的抗干擾能力是關(guān)系到整個(gè)系統(tǒng)可靠運(yùn)行的關(guān)鍵。隨著DCS、現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的應(yīng)用,被控對(duì)象和被測(cè)信號(hào)往往分布在各個(gè)不同的地方,并且他們與控制站之間也有相當(dāng)長(zhǎng)的距離,因此,信號(hào)線和控制線均可能是長(zhǎng)線。其次,現(xiàn)場(chǎng)往往有許多強(qiáng)電設(shè)備,它們的啟動(dòng)和工作將對(duì)測(cè)控系統(tǒng)產(chǎn)生強(qiáng)烈的影響。同時(shí)來(lái)自空間的輻射干擾、系統(tǒng)外引線干擾等問(wèn)題尤為突出。因此,除有用信號(hào)外,由于各種原因必然會(huì)有一些與被測(cè)信號(hào)無(wú)關(guān)的電流或電壓存在,這種無(wú)關(guān)的電流或電壓通稱(chēng)“干擾(噪聲)"。在測(cè)量過(guò)程中,這些干擾若不能很好地處理,那它將歪曲測(cè)量結(jié)果,嚴(yán)重時(shí)甚至使儀表或計(jì)算機(jī)不能工作。大量實(shí)踐說(shuō)明,抗干擾性能是各種電子測(cè)量裝置的一個(gè)很重要的問(wèn)題,尤其是DCS、現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的廣泛應(yīng)用和迅速發(fā)展,有效地排除和抑制各種干擾,已成為必需探討和解決的迫切問(wèn)題,因?yàn)楦蓴_不僅能造成邏輯混亂,使系統(tǒng)測(cè)量和控制失靈,以致降低產(chǎn)品的質(zhì)量,甚至使生產(chǎn)設(shè)備損壞,造成事故。因此,抗干擾技術(shù)在儀表測(cè)控系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。







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